局部研磨主要是手工研磨，使用的研磨物料以干研較多。平面密封面局部研磨的目的主要是消除密封面上的局部凸起及糾正兩密封面夾角不正的現象。

平面密封面的局部研磨方法較多，見圖9-53。

(1)圖9-53(a)是密封面印影的分布情況，密封面上的缺陷是通過標準平板或標準研具的檢查反映出來的，要防止用平整度不高的平板或研具的檢查。否則，得不到正確的印影。

從印影分布情況分析：左上角一個白點是著色檢查磨出的白亮點，它與沒有印影的空白處光澤不一樣，這白亮點最高；印影不大清楚或顯示劑厚的為較低處；印影斷線處，沒有沾上顯示劑的為最低處。從以上分析看，密封面是從右下角向左上角傾斜，產生這種現象是左上角一個白亮點凸出的緣故，只要把左上角白亮點局部研磨掉，密封面的平整度將大為提高。

(2)圖9-53(b)是油石局研的方法。選用長方形油石平放在平面密封面上，用手平穩地握住油石，食指自然壓在油石上控制研磨壓力，使油石在局研部位上作左右擺動或作弧形往復運動，直到研磨出較理想的密封面為止。用油石研磨時，應加一些機油，油酸等，以利提高研磨質量，以免密封面拉毛。

(3)圖9-53(c)是用砂布(紙)局研的方法，用作研具的長板，下面墊上砂布或砂紙，長板一端用拇指壓在密封面上，中間夾墊著一層布或者紙作為定點。另一端用拇指壓著砂布或砂紙，并用食指夾持著，研磨時手指左右擺動，其研磨速度、壓力、范圍由手指控制。

(4)圖9-53(d)是用砂輪片局部研磨的方法，使用的砂輪片為薄片砂輪或單斜邊砂輪，其操作方法與長板研磨相似。此法效率高，適用于較大局研部位。

(5)圖9-53(e)是用研磨劑的方法，研磨劑稀釋均勻分布平板上，用手夾持著閥瓣、閘板，將其平放在涂有研磨劑的平板上，用食指著力壓在局部位置上，被研磨件在平板上作8字形研磨運動，并不斷掉換方向，使平板每一部位都得到均勻的磨削。由于研磨體上施加壓力不同，其磨削量不一樣，局研位置施加壓力大些，磨削快些，且局研部位過渡線自然。

(6)圖9-53(f)是用鏟刀刮削的方法，用紅丹、蘭丹等顯示劑涂在密封面上，使密封面密合，產生印影后，根據密封面印影的分布情況，用鏟刀刮削密封面上的高點處，經多次刮削，使密封面得到應有的平整度和光潔度。

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